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國內(nèi)直銷AMAYA天谷制作所MOCVD 設備; Doctor-TTM

AMAYA天谷制作所MOCVD 氣相沉積設備; Doctor-TTM ? 8 英寸晶圓兼容 ? 可沉積金屬氧化膜、金屬氮化膜等 ? 采用磚利無氯氣化器 ? 擁有 4 種 MO 材料線 ? 單室/雙腔室可選
國內(nèi)銷售AMAYA天谷制作所玻璃基板成膜裝置

● 低溫（150~300°C）處理 ● 形成高品質(zhì)的SiO2膜低應力、無等離子體損傷、小顆粒 ? 降低導入和維護成本小占地面積、無需真空 · 等離子體處理 ● 價格低廉氣相沉積設備
AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

氣相沉積設備 ● ±2%以內(nèi)的膜厚均勻性 ● 低溫工藝對應 ● 抑制顆粒產(chǎn)生 ● 提高維護性 ● 緊湊的裝置結(jié)構(gòu) ● 提高 **性 ● 良好的臺階覆蓋性
代理AMAYA天谷制作所高生產(chǎn)率連續(xù)常壓CVD設備 AMAX800V

● 8英寸/小時100張高通量 ●采用SiC托盤，可應對重金屬污染，實現(xiàn)長期穩(wěn)定工藝 ●提高維護性氣相沉積設備
日本AMAYA天谷制作所12 英寸連續(xù)常壓CVD設備AMAX1200

●12英寸~56張/時的吞吐量 ●采用SiC托盤的重金屬污染對策
代理AMAYA天谷制作所連續(xù)常壓 CVD設備A6300S

AMAYA天谷制作所連續(xù)常壓 CVD設備A6300S ●6英寸~120張/小時吞吐量 ●采用SiC托盤的重金屬污染對策氣相沉積設備
AMAYA天谷制作所太陽能電池批量生產(chǎn)用AMAX1000S

156mm 方形/小時 1500 張吞吐量 ? 通過采用 SiC 托盤解決重金屬污染問題，以及通過改進托盤支架進行背面旋轉(zhuǎn)措施氣相沉積設備
AMAYA天谷制作所小型生產(chǎn)和開發(fā)的常壓 CVD 設備 D501

? 批量常壓 CVD 設備，用于在大型托盤中裝載多個晶圓氣相沉積設備

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